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IBM展示新的芯片制造技术high-k/metal gate

matrix 发表于 2008年4月17日 08时35分 星期四   Printer-friendly   Email story
来自金属门部门
去年夏天Intel及IBM/AMD宣布将采用被称为high-k/metal gate的新芯片制造技术,Intel正用这项技术改进它的45nm芯片的速度和能耗。IBM同它的制造业合作伙伴,则刚刚展示了运用该技术的芯片,它声称high-k/metal gate技术在32 nm芯片上比45nm的芯片性能提高30%,能耗节省50%。IBM计划到2009年底生产部分32nm处理器。AMD至今还没有采用high-k/metal gate,但它已经与IBM达成使用这项新技术的协议。
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